ما هو تدفق عملية خلايا Topcon

التنظيف والملمس: بعد قطع رقاقة السيليكون ، تتلف حافةها ، ويتم تدمير هيكل الشبكة للسيليكون ، ويتضاعف السطح بشكل خطير. الغرض الرئيسي من التنظيف والنسيج هو إزالة تلف السطح وتشكيل بنية محاكمة الضوء الهرم السطحية لزيادة امتصاص الضوء وتحسين عمر حاملة الأقليات.
عملية نشر البورون: الوظيفة الرئيسية هي إعداد تقاطعات PN. بسبب انخفاض قابلية الذوبان الصلبة للبورون في السيليكون ، هناك حاجة إلى ارتفاع درجة الحرارة والوقت الأطول للانتشار. عادةً ما يتم إكمال انتشار البورون عند درجة حرارة أعلى ، تتجاوز 1000 درجة ، ووقت دورة انتشار البورون هو 150 دقيقة مقارنة مع دورة الدقيقة {2}} المطلوبة لنشر الفوسفور.
عملية تعاطي المنشطات: تشكل منطقة مخدر بشدة لتحسين كفاءة تحويل الكهروضوئية. يمكن أن تحقق خلايا Topcon المتراكبة مع تقنية SE نظريًا زيادة الكفاءة في {0}}. 5 ٪ ، وفي الإنتاج الضخم الفعلي ، يمكن أن تحقق زيادة في الكفاءة 0. يمكن لعملية المنشطات استخدام الليزر للخروج أو المنشطات. تشمل الطرق المحددة اثنين من عمليات نشر البورون + أخدود ليزر ، واثنين من عمليات نشر البورون + المنشطات الليزرية ، ونشر البورون بالليزر.
‌ ‌inging عملية ‌: الوظيفة الرئيسية هي إزالة BSG وتقاطع الظهر. ستشكل عملية الانتشار طبقة نشر على السطح ومحيط رقاقة السيليكون. طبقة الانتشار المحيطية عرضة لدائرة قصيرة ، وتؤثر طبقة نشر السطح على التخميل اللاحق ، لذلك يجب إزالتها.
‌preparation لطبقة أكسيد النفق وطبقة polysilicon ‌: إيداع طبقة أكسيد النفق {0}} nm على الظهر ، ثم قم بإيداع طبقة polysilicon nm لتشكيل بنية التخميل. تشمل الطرق الرئيسية LPCVD و PECVD و PVD ، مع كون LPCVD الطريقة الرئيسية في الوقت الحاضر.
‌ تنظيم فيلم مضاد للانتعاش الظهر: قم بإعداد طبقة فيلم مضادة للانسداد في الجزء الخلفي من البطارية لزيادة امتصاص الضوء. في الوقت نفسه ، يكون لذرات الهيدروجين في عملية تكوين فيلم Sinx تأثير التخميل على رقاقة السيليكون.
plate plating أكسيد الألومنيوم: قم بإيداع طبقة فيلم أكسيد الألومنيوم على مقدمة رقاقة السيليكون ، وتشكل تأثير تخميل أمامي مع طبقات أفلام أخرى.
‌ انتشار فيلم أمامي مضاد للانعكاس: يعمل الفيلم الأمامي المضاد للانعكاس والخلف معًا لزيادة امتصاص أشعة الشمس ، وتقليل الخسائر البصرية ، وزيادة التيار الضوئي ، وبالتالي تحسين كفاءة التحويل.
Topcon Cell Technicals وآفاق التطبيق: تتمتع خلايا Topcon بمزايا التوهين المنخفض ، والثنائي العالي ، ومعامل درجة الحرارة المنخفضة. تشبه عملية التصنيع الخاصة بها الخلايا الشمسية PERC/PERT ، ويحتاج المصنعون فقط إلى استثمار صغير لترقية خطوط الإنتاج الحالية. تتمتع Topcon Cell Technology بإمكانية التطور بسرعة ويمكن أن تشغل مكانًا بين مصنعي الوحدات النمطية الكهروضوئية PERC/PERT في السوق.