تصنيف الزجاج الكهروضوئي. تشتمل ركائز الزجاج الكهروضوئية المستخدمة في الخلايا الشمسية بشكل عام على زجاج فائق الرقة ، وزجاج مغطى بالسطح ، ومحتوى منخفض من الحديد (شديد النقاء). وفقًا لطبيعة الاستخدام وطرق التصنيع المختلفة ، يمكن تقسيم الزجاج الكهروضوئي إلى ثلاثة أنواع من المنتجات ، أي لوحة الغلاف للخلايا الشمسية المسطحة ، والتي تكون بشكل عام عبارة عن زجاج ملفوف ؛ سطح الزجاج المسطح مغطى بمواد شبه موصلة بسمك بضعة ميكرونات فقط. ركائز موصلة لبطاريات الأغشية الرقيقة ؛ زجاج للعدسات أو المرايا المستخدمة في الأنظمة الكهروضوئية الحرارية. تختلف خصائص ووظائف هذه المنتجات الثلاثة تمامًا ، كما أن قيمتها المضافة مختلفة جدًا أيضًا.
الزجاج الكهروضوئي الأكثر استخدامًا اليوم هو الزجاج عالي النفاذية ، وهو زجاج يحتوي على نسبة منخفضة من الحديد ، والذي يُعرف عادةً بالزجاج شديد الوضوح. الحديد هو شوائب في الزجاج العادي (باستثناء الزجاج الماص للحرارة). لن يؤدي وجود شوائب الحديد إلى تلوين الزجاج فحسب ، بل سيزيد أيضًا من معدل امتصاص الحرارة للزجاج ويقلل من نفاذية الضوء للزجاج.
يتم إدخال الحديد في الزجاج عن طريق المواد الخام نفسها ، أو المواد المقاومة للحرارة أو معدات إنتاج المعادن ، ولا يمكن تجنبها تمامًا. يمكن فقط تقليل محتوى الحديد في الزجاج قدر الإمكان من خلال التحكم في الإنتاج. في الوقت الحالي ، يتراوح محتوى الحديد في زجاج الخلايا الشمسية بين {{0}. 0 08 بالمائة و 0.02 بالمائة ، بينما محتوى الحديد للزجاج المصقول العادي أعلى من 0.7 بالمائة. يمكن للشوائب منخفضة محتوى الحديد أن تجلب نفاذية عالية للضوء الشمسي. بقدر ما يتم استخدام الزجاج بسمك 3.2 مم وسمك 4 مم في الصين ، فإن نفاذية الضوء المرئي لأشعة الشمس تصل عمومًا إلى 90 بالمائة ~ 92 بالمائة.
كأحد أهم مكونات أجهزة الطاقة الشمسية ، يتطلب الزجاج الكهروضوئي الشمسي أن يكون اللوح الزجاجي شديد الشفافية. لذلك ، فإن متطلبات محتوى الحديد في مواد السيليكون الخام المستخدمة في إنتاج الزجاج الشمسي صارمة للغاية ، ومحتوى Fe2O3 بشكل عام 140-150 جزء في المليون.
